步进光刻机 的英文是 Stepper
领域：半导体
常见误译：最常见的误译是把 stepper 处理成普通‘步进机’，丢掉光刻语境，读者会误以为是通用运动平台。
步进光刻机把掩模版上的图形逐场投射到晶圆上，每次曝光一个区域，再移动晶圆继续下一次曝光。在晶圆厂工艺文件、设备规格书、维护记录和光刻配方里，它用来描述光刻步骤、对准方式和曝光场布局。
在本地化工作中，步进光刻机常见于光刻设备手册、晶圆厂标准作业程序、工艺规格和操作员培训材料。设备报警信息、配方管理界面和维护检查表里也会出现，要求译员把这类曝光设备与扫描光刻机区分清楚。
最常见的误译是把 stepper 处理成普通‘步进机’，丢掉光刻语境，读者会误以为是通用运动平台。另一个问题是把它和扫描光刻机混为一谈；步进光刻机曝光时掩模版和晶圆保持静止，误用扫描相关说法会歪曲工艺能力。
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