掩膜版 的英文是 Photomask
领域：半导体
常见误译：常见错误是不区分 photomask 和 reticle，统一译成“掩膜版”或“光罩”。
掩膜版是承载电路图形、在光刻时把图形转移到涂有光刻胶晶圆上的模板。在掩膜制造和晶圆厂文件中，它出现于掩膜设计规范、掩膜厂工单、光刻工艺文件和光罩检测报告，关注图形保真度、套准和缺陷控制；在步进重复曝光设备中，还可与光罩区分。
翻译时常见于掩膜设计规则、掩膜厂工单、光刻工艺说明和缺陷检查报告。在步进重复光刻中，photomask 与 reticle 有时被混用，但二者可能指不同的掩膜格式和曝光场，翻译时需根据上下文区分。
常见错误是不区分 photomask 和 reticle，统一译成“掩膜版”或“光罩”。在步进机或扫描机光刻中，整版掩膜与小视场光罩不能混淆，否则掩膜采购、光刻设置和检测说明会出错。
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