光罩 的英文是 Reticle
领域：半导体
常见误译：常见错误是把 reticle 直接译成“掩膜版”，不说明它用于步进机或扫描机，或者把它和全晶圆掩膜视为同一种东西。
光罩是步进重复投影光刻中使用的掩膜版，承载单个或多个曝光场图形，在晶圆上重复曝光。光刻设备配方、光罩管理文件和套准规范中，它指装入扫描机或步进机的掩膜板，视场尺寸、放大倍率和对准标记对曝光设置非常关键。
翻译中常见于光刻设备界面、光罩管理软件和作业文件，也出现在套准测量和光罩检测报告里。在先进光刻模块中需要与 photomask 保持区分，否则设备设置和过程控制内容会受影响。
常见错误是把 reticle 直接译成“掩膜版”，不说明它用于步进机或扫描机，或者把它和全晶圆掩膜视为同一种东西。这样光刻设备装片说明、套准信息和工具消息会出错，若掩膜格式理解错误还可能导致设置问题。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
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