套刻误差 的英文是 Overlay Error
领域：半导体
常见误译：常见误译是把 overlay error 说成‘覆盖误差’或‘重叠错误’，听起来像软件图层问题，偏离了晶圆图形失准的原义。
套刻误差是当前曝光图形与晶圆上已有图形之间的层间对准偏差，通常以带方向和幅度的矢量表示。它主要出现在光刻工艺规格、套刻量测报告、过程控制图和良率分析文件中，用来判断层间套准是否超出容差。
本地化中，套刻误差出现在光刻工艺规范、量测设备报告、统计过程控制看板和扫描光刻机对准配方文档里。失效分析和良率学习内容中也常出现，工程师会讨论修正模型、采样方案和层间失准根因，译员需要熟悉残差、修正项等伴生概念。
常见误译是把 overlay error 说成‘覆盖误差’或‘重叠错误’，听起来像软件图层问题，偏离了晶圆图形失准的原义。另一个错误是把它只当作标量百分比，漏掉方向和分轴数据；翻译表格时丢失这些信息会误判工艺能力，也影响对准修正决策。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
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