关键尺寸 的英文是 Critical Dimension
领域：半导体
常见误译：常见错误是把 CD 展开为“光盘”或解释成“关键距离”，在半导体量测语境中完全错误。
关键尺寸是制造工艺必须控制的最小特征尺寸或线宽，通常以纳米为单位，并在光刻或蚀刻之后量测。它出现在半导体文档中的工艺规范、量测报告、统计过程控制图和设计规则检查里，主要关注 CD 均匀性、偏差和目标偏移。
关键尺寸出现在工艺规范、量测配方、光学邻近效应修正模型和设计规则文件中。翻译时常见于晶圆厂量测指导、CD-SEM 设备界面、统计过程控制报告和质量记录，需确保 CD 数值、目标偏移与均匀性指标和源文档图片、数据保持一致。
常见错误是把 CD 展开为“光盘”或解释成“关键距离”，在半导体量测语境中完全错误。另一个问题是在配方和界面里缩写与全称不统一，导致 CD、线宽和目标偏移对不上图纸与数据，影响操作和审阅。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
天使翻译在专家审校开始前，会将此类术语锁定至项目术语库，确保同一源术语在提交的所有文档中保持一致。