光学邻近校正 的英文是 Optical Proximity Correction
领域：半导体
常见误译：常见误译是“光学接近校正”“光学邻近修正”在不同界面混用，或把 correction 和 repair 都译成“修正”而不加区分。
光学邻近校正是掩模数据处理中的一个步骤，通过添加衬线、偏移边缘或制作亚分辨率辅助图形，预先补偿光刻中的衍射和光刻胶效应。它位于设计规则检查之后、掩模写入之前，用于在先进工艺节点下保持关键尺寸的准确性。
该术语出现在掩模综合手册、DFM 规则文件、光刻工艺文档和掩模数据准备说明中。翻译内容涉及 OPC 脚本参数、掩模数据准备菜单、校正层说明、图层选项，以及讨论关键尺寸和套刻预算的签核报告。
常见误译是“光学接近校正”“光学邻近修正”在不同界面混用，或把 correction 和 repair 都译成“修正”而不加区分。也有人省略“光学”或将 proximity 译成“近距离”，丢失衍射背景。掩模数据准备界面中术语不一致，可能导致选错图层或脚本。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
天使翻译在专家审校开始前，会将此类术语锁定至项目术语库，确保同一源术语在提交的所有文档中保持一致。