光刻 的英文是 Lithography
领域：半导体
常见误译：常见错误是把半导体领域的“lithography”译成“平版印刷”或沿用美术印刷含义，这在晶圆图形化流程或设备安全文档中会误导读者。
光刻是半导体制造中利用光和光敏光刻胶，将电路图形从光掩模转移到晶圆上的工艺过程。在工艺文档中，该词出现在晶圆厂流程说明、光刻设备手册和图形化模块介绍中，覆盖涂布、曝光、对准、光刻胶处理和后续量测或检测步骤。
“lithography”常见于工艺整合论文、晶圆厂培训材料、设备操作指南、光刻胶和光掩模规格书以及光刻单元监控文件。翻译时涉及工序说明、缺陷检测指令、套刻精度和关键尺寸控制内容，必须译为“光刻”，不能沿用普通印刷语境中的“平版印刷”。
常见错误是把半导体领域的“lithography”译成“平版印刷”或沿用美术印刷含义，这在晶圆图形化流程或设备安全文档中会误导读者。另一个问题是修饰语处理不当，把光刻、极紫外光刻和浸没式光刻混为一谈，失去不同工艺之间的关键区别。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
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