硬掩膜 的英文是 Hard Mask
领域：半导体
常见误译：最常见的错误是把 hard mask 与 photomask 混淆，译成「硬掩膜版」或「硬光罩」。
硬掩膜是用氮化硅、氧化硅、无定形碳或金属化合物等无机材料制成的刻蚀掩蔽层。光刻胶图形先转移到硬掩膜上，再以硬掩膜为掩蔽刻蚀下层材料；它比光刻胶更耐刻蚀，适合深刻蚀和线宽很小、胶层很薄的场合。
硬掩膜出现在工艺集成文件、刻蚀配方、膜层堆叠说明和缺陷分析报告中。翻译时常与光刻胶、抗反射涂层、图形转移等术语同时出现，膜层堆叠表的层序和材料名必须逐项对应，不能调整顺序。
最常见的错误是把 hard mask 与 photomask 混淆，译成「硬掩膜版」或「硬光罩」。掩膜版是光刻机里使用的石英版，硬掩膜是沉积在晶圆上的一层薄膜，两者完全不在一个位置。另一个问题是把 hard 译成「硬质」后加上材料名，造成同一层膜多种叫法。
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