设计规则检查 的英文是 DRC
领域：半导体
常见误译：常见错误是把 DRC 译成宽泛的“设计评审检查”，或在“规则检查”“设计规则检查”之间混用。
设计规则检查（DRC）是一种自动验证步骤，将集成电路版图与目标制造工艺定义的几何和电气规则进行比对。在物理设计文档、EDA 工具输出和流片核对清单中，DRC 是掩模数据交付前的关键检查项，用来发现间距、线宽、包覆和密度等可能影响可制造性的违规。
“DRC”常见于 EDA 工具消息、设计评审文档、签核清单和代工厂规则文件说明。翻译时主要涉及错误代码、版图调试指引和交付标准，通常首次译为“设计规则检查”，后文保留 DRC，并对“violation”的译法保持统一。
常见错误是把 DRC 译成宽泛的“设计评审检查”，或在“规则检查”“设计规则检查”之间混用。在 EDA 和代工厂文件中，这会影响与设计规则文件的对应关系，使签核标准含糊。另一个问题是将 DRC 违例泛泛译成“错误”，未说明是几何规则违规还是普通设计错误。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
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