浸没式光刻 的英文是 Immersion Lithography
领域：半导体
常见误译：常见错误是把 immersion 译成「浸泡」或「浸入」，读者会误以为整片晶圆被泡在液体里，而实际上液体只充满物镜与晶圆之间的局部区域。
浸没式光刻是在投影物镜与晶圆之间填充高折射率液体（通常为超纯水）以提高数值孔径的光刻方式。相比干式光刻，它在同样波长下可以分辨更小的特征尺寸，是 193 nm 波长延伸到 40 nm 以下节点的关键手段，至今仍与多重图形化配合用于大量成熟制程。
浸没式光刻出现在工艺流程文件、光刻机操作规程、设备验收规范和缺陷分析报告中。翻译时多见于工艺段落的设备说明、水质与气泡控制要求，以及与 EUV 路线对比的技术白皮书，需要与「干式光刻」「多重图形化」等相邻概念明确区分。
常见错误是把 immersion 译成「浸泡」或「浸入」，读者会误以为整片晶圆被泡在液体里，而实际上液体只充满物镜与晶圆之间的局部区域。另一个问题是与「沉浸式」混用——后者是 VR 语境的固定译法，出现在半导体文档里会让工艺描述读起来不知所云。
术语必须在数据手册、设计套件和专利申请中保持一致。任何一个参数不一致都可能传导至制造决策，或削弱专利权利要求；同时，知识产权保密要求适用于整个链条中的每一份文件。
天使翻译在专家审校开始前，会将此类术语锁定至项目术语库，确保同一源术语在提交的所有文档中保持一致。