金属硅化物 的英文是 Silicide
领域：半导体
常见误译：常见错误是把 silicide 与 silicate 看混，把「金属硅化物」写成「硅酸盐」，两者是完全不同的材料。
金属硅化物是金属与硅反应生成的化合物，常见的有硅化钛、硅化钴和硅化镍。它形成在源、漏和栅极表面，用来降低接触电阻和薄层电阻；与侧墙配合、只在裸露硅表面自对准形成的做法称为自对准硅化物工艺。
金属硅化物出现在前道与中段工艺规程、接触电阻测试报告、失效分析和工艺集成文件中。翻译时常与 salicide、接触孔、方块电阻等概念同时出现，金属种类的化学式应原样保留，便于与材料清单对应。
常见错误是把 silicide 与 silicate 看混，把「金属硅化物」写成「硅酸盐」，两者是完全不同的材料。另一个问题是把 salicide 直接当成 silicide 的同义词，漏掉「自对准」这一工艺特征，读者会看不出为什么这一步不需要额外光刻。
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